本標準規(guī)定了真空鍍膜顯現手印技術的原理、設備、鍍膜材料及實驗室環(huán)境要求、顯現準備、操作步驟及注意事項等。本標準適用于顯現大多數非滲透性及部分半滲透、滲透性客體表面潛在手印，包括部分“502”膠熏顯后的客體等。