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物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 18682-2002
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
起草單位: 武漢材料保護(hù)研究所
發(fā)布日期: 2002-03-10
實(shí)施日期: 2002-08-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2020年11月12日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了物理氣相沉積TiN薄膜的技術(shù)要求。本標(biāo)準(zhǔn)適用于物理氣相沉積TiN薄膜,也適用于其他方法制備的TiN薄膜。本標(biāo)準(zhǔn)也適用于其他材料沉積層(TiC,TiCN,TiAlN等)。

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