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鉑釕合金薄膜測定方法 X射線光電子能譜法 測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量

標(biāo) 準(zhǔn) 號: YS/T 644-2007
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國國家發(fā)展和改革委員會
起草單位: 昆明貴金屬研究所
發(fā)布日期: 2007-04-13
實(shí)施日期: 2007-10-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2020年11月06日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了鉑釕合金薄膜材料中合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量的測定方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于鉑釕合金薄膜材料中合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量的測定。也可適用于鉑合金薄膜材料中合金態(tài)鉑及合金態(tài)金屬含量的測定。
本標(biāo)準(zhǔn)不適用于單層厚度不大于10nm的層狀薄膜。

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