本標準規(guī)定了用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)測定硅外延用三氯氫硅(SiHCl3)中硼、鋁、磷、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鉬、砷、銻等痕量元素含量的方法。
本標準適用于硅外延用三氯氫硅(SiHCl3)中硼、鋁、磷、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鉬、砷、銻等含量的測定。
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