本文件規(guī)定了利用亞硫酸/二氧化硫蒸氣測(cè)定金或鈀鍍層孔隙率的設(shè)備和方法，特別是用于測(cè)定電觸頭上的電鍍層和包金層孔隙率的設(shè)備與方法。本文件不適用于孔隙率具體數(shù)值的符合性判定。
本文件不適用于通過(guò)孔隙的位置和腐蝕產(chǎn)物來(lái)預(yù)測(cè)鍍層觸點(diǎn)的電性能。
本文件適用于定量描述孔隙率小于100 /cm2的金或鈀鍍層。
本文件適用于定性描述與比較孔隙率大于或等于100 /cm2的金或鈀鍍層。