本標準給出了使用連續(xù)變波長、變角度的光譜型橢圓偏振儀測量硅表面上二氧化硅薄層厚度的方法。
本標準適用于測試硅基底上厚度均勻、各向同性、10nm~1000nm 厚的二氧化硅薄層厚度,其他對測試波長處不透光的基底上單層介電薄膜樣品厚度測量可以參考此方法。