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晶元代工廠的特殊氣體安全與品質(zhì)控制

文件大?。?1.22 MB 共51頁(yè)
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更新時(shí)間: 2015年04月28日
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文件作者: 周鵬
內(nèi)容摘要

隨著科學(xué)技術(shù)的突飛猛進(jìn),半導(dǎo)體制造技術(shù)面臨日新月異的變化,對(duì)氣體的需求無(wú)論是在種類上還是品質(zhì)上都不斷提高。晶圓制造廠被國(guó)外列為“極高風(fēng)險(xiǎn)”的行業(yè),因?yàn)樵谄渲圃爝^(guò)程中要使用到大量的高毒性、腐蝕性或易燃易爆性等工藝氣體。特殊氣體品質(zhì)及安全管理問(wèn)題日顯突出。因此本論文以N。0及Sill。兩個(gè)氣體供應(yīng)系統(tǒng)為基礎(chǔ),分別進(jìn)行了氣體供應(yīng)系統(tǒng)品質(zhì)及安全問(wèn)題的研究。
本文首先簡(jiǎn)單介紹了本研究工作的意義、‘現(xiàn)狀、工作內(nèi)容。

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